소테리아, 차세대 EDA 툴 'DEF 지니' 첫 공개
반도체 팹리스 기업 소테리아는 지난 20일부터 21일까지 중국 청두에서 개최된 'ICCAD 차이나 2025(중국 집적회로 설계 컨퍼런스)'에 참가해 자사의 신규 EDA 툴인 'DEF 지니(Genie)'를 소개했다고 1일 밝혔다. ICCAD 차이나는 전 세계 반도체 설계 업계의 최신 기술 트렌드를 공유하는 대규모 국제 행사다. 이번 전시회에는 삼성, TSMC, 시놉시스(Synopsys), 앰코(Amkor) 등 글로벌 반도체 선도 기업들이 대거 참여해 AI, HPC(고성능 컴퓨팅), 차세대 칩 설계와 패키징 등 첨단 기술을 선보였다. 소테리아는 이번 행사에서 자체 개발한 EDA 툴 DEF 지니의 실제 데모와 기술 발표를 진행하며 참관객들의 이목을 집중시켰다. DEF 지니는 기존 커스텀 레이아웃 툴에서는 구현이 불가능했던 설계 넷리스트(Netlist) 정보의 직접 반영을 가능케 한 솔루션이다. 본래 DEF 지니는 초저전력 HPC 가속기 아폴론 칩의 PPA 달성을 위해 개발됐으나, EDA 툴 자체로도 상품 경쟁력이 있어 호평을 받았다. 특히 발표 세션에서는 커스텀 레이아웃 데이터를 SoC(시스템온칩) 레이아웃 데이터베이스로 실시간 전환하는 시연을 통해, 단절되어 있던 커스텀 디자인과 SoC 디자인 사이의 기술적 '가교' 역할을 완벽히 수행할 수 있음을 입증했다. 또한 국제 표준인 OA(Open Access) API 를 기반으로 개발되어 다양한 설계 환경에서의 호환성을 확보했다는 점도 현장 전문가들의 호평을 받았다. 소테리아는 AI·HPC ASIC 의 최고 수준 PPA 달성을 위해 필수적인 커스텀 레이아웃을 채택하며 발생하는 설계상의 난제를 자체 EDA 툴 개발을 통해 극복할 수 있는 기술 경쟁력을 입증했다. 이를 통해 단순한 칩 설계를 넘어, 설계 품질과 완성도를 획기적으로 향상시킬 수 있는 역량을 보유하고 있음을 확인시켰다. 김종만 소테리아 대표는 “전 세계 반도체 엔지니어들이 모인 자리에서 'DEF 지니'의 혁신성을 인정받게 되어 뜻깊다”며 “설계 생산성 향상과 검증 효율성 증대는 국경을 초월한 반도체 업계의 공통 과제인 만큼, 이번 런칭을 기점으로 글로벌 팹리스 및 디자인 하우스와의 협력을 본격적으로 확대해 나갈 것”이라고 밝혔다.
