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한미일, 반도체 공정으로 촉매 제조 성공…에틸렌 수율 29배 개선

화학반응에 쓰이는 촉매 구조를 원자 수준에서 선택적으로 제어하는 기술을 한미일 연구팀이 개발했다. 향후 맞춤형 촉매 설계·제조가 가능해질 전망이다. 한국에너지기술연구원은 김희연 수소에너지연구소 책임연구원 연구팀이 촉매를 구성하는 원자의 크기, 위치와 주변 구조까지 정밀히 제어할 수 있는 새로운 기술을 개발했다고 27일 밝혔다. 미국 브룩헤이븐국립연구소(BNL, 아크힐 타얄 박사)와 서울대학교(한정우 교수), 일본 국립재료과학연구소(NIMS, 서옥균 박사)가 이 연구를 지원했다. 김희연 책임연구원은 "이번 연구는 촉매 개발의 제어 범위를 기존의 '성분–함량–크기' 중심에서 '위치와 주변 구조'까지 확장한 것"이라며 "반응별로 요구되는 활성점과 성분 간 상호작용을 고려한 맞춤형 촉매 설계·제조가 향후 가능할 것으로 기대한다"고 말했다. 연구팀은 촉매를 제조하는 기존 액상법이나 함침법에 특정 촉매 성분의 표면에 원하는 원자종을 선택적으로 형성하는 화학기상증착(CVD) 기술을 보태 화학반응에 최적화한 촉매 구조를 실현했다. 김희연 책임은 "선택적 CVD를 활용해 망간(Mn) 입자 표면에만 텅스텐(W) 원자가 달걀 껍데기처럼 담지된 형태로 달라붙게 하는데 성공한 것"이라고 설명했다. 그동안 촉매 제조에 반도체 공정인 CVD를 접목하려는 시도는 공정의 난이도 등으로 인해 드물었다. 연구팀은 이 방법으로 Mn과 W를 촉매로 사용해 메탄을 석유화학 공업의 핵심 원료인 에틸렌으로 전환하는 실험을 진행했다. 이산화규소(실리카) 지지체에 함침법 등으로 Mn촉매를 제조한뒤 W 전구체를 기화시켜 흡착하는 CVD공정으로 촉매를 제조했다. 연구팀은 Mn 표면에만 W 원자층이 선택적으로 균일하게 올라 앉아 맞춤형 촉매 제조가 가능하다는 것을 확인했다. 실제 메탄을 석유화학 공업의 핵심 원료인 에틸렌으로 전환하는 실험 결과 W가 촉매 반응에 활용되는 비율(촉매 활용률)은 기존 액상법 대비 약 28%에서 82%로 3배 가까이 높아졌다. 메탄 전환율은 약 7.5배(6.9%→51.7%) 향상됐다. 최종 생성물인 에틸렌의 수율도 약 29배(0.9%→26.0%) 올랐다. 또 800도 고온에서 180시간 운전해도 원자가 뭉치지 않아 안정적인 성능과 내구성을 나타냈다. 이 기술 활용처는 ▲탄소 자원 전환 및 수소생산, 메탄 건식 개질, 수증기 개질, 프로판 탈 수소화 등 ▲수소 및 연료 전지, 이차전지 전극 ▲기존 촉매의 활성 금속 분산 및 금속-지지체 계면 정밀 제어 ▲맞춤형 CVD 촉매 제조 플랫폼 등에 적용 가능하다. 김희연 책임은 "기술성숙도로 보면 시제품이 나온 4단계 정도 된다"며 " 맞춤형 CVD 촉매 제조 플랫폼을 확립하는 방향으로 이 기술을 발전시켜 나갈 계획"이라고 말했다. 현구결과는 국제학술지 '케미컬 엔지니어링 저널'(IF 12.5)에 온라인으로 게재됐다.

2026.10.27 10:52박희범 기자

케이엔제이, '제33회 충청남도 기업인대상' 우수기업인상 수상

반도체 공정용 소재·부품 전문기업 케이엔제이는 충청남도가 주최한 '제33회 충청남도 기업인대상'에서 우수기업인상을 수상했다고 22일 밝혔다. 충청남도 기업인대상은 지역경제 발전에 기여한 도내 우수기업과 기업인을 발굴하고 격려하기 위해 마련된 시상 제도다. 올해는 케이엔제이를 비롯한 5개 기업이 충청남도지사 우수기업인상 수상의 영예를 안았다. 케이엔제이는 반도체 식각 공정에 사용되는 핵심 소모성 부품인 CVD SiC 포커스링을 주력으로 생산하는 기업이다. 회사는 CVD 증착 챔버 자체 개발을 비롯해 소재 생산부터 정밀가공, 품질검사까지 주요 공정의 자체 수행 역량을 확보하며 기술 경쟁력을 강화해 왔다. 특히 최근 글로벌 메모리 업체들의 선단공정 전환과 생산능력 확대에 따라 반도체 식각 공정용 소모성 부품의 수요가 증가하고 있다. 특히 애프터마켓 적용 확대를 통해 기존 고객의 반복발주와 공급 물량이 늘어나면서 케이엔제이의 반도체 부품사업도 성장세를 이어가고 있다. 회사는 이러한 수요 증가에 대응해 생산능력을 지속적으로 확충하고 있다. 올해 9월 말 기준 연간 매출 환산 약 1400억원 수준의 SiC 생산능력을 확보했으며, 올해 반도체 부품사업 매출이 전년 대비 30% 이상 성장할 것으로 기대하고 있다. 향후에는 기존 낸드 중심의 공급 경험을 D램으로 확대하고, 해외 신규 고객 확보 및 기존 고객 내 공급 품목 다변화를 통해 성장세를 이어갈 계획이다. 이와 함께 직경 500mm 이상의 대구경 단결정 Si 부품사업도 신규 성장 축으로 육성하며, 중장기 사업 기반을 확대하고 있다. 케이엔제이 심호섭 대표이사는 “이번 우수기업인 대상 수상은 임직원들이 그동안 반도체 핵심 소재·부품 분야에서 함께 쌓아온 기술력과 노력의 결실이라는 점에서 뜻깊다”며 “앞으로도 기술 경쟁력을 강화해 글로벌 반도체 시장에서 입지를 넓히고, 지역 산업 발전에도 기여하겠다”고 말했다.

2026.10.22 10:54장경윤 기자

비아트론, '3D 메모리 에피 장비' 국책과제 주관기관 선정

디스플레이 열처리 장비가 주력인 비아트론이 산업통상부와 한국산업기술기획평가원(KEIT)이 주관하는 반도체 공정장비 국책과제 주관기관에 선정됐다고 6일 밝혔다. 비아트론이 수주한 과제는 '3D 수직적층 메모리용 실리콘·실리콘게르마늄(Si·SiGe) 증착과 웨이퍼 계측·검사가 융합된 UPH 5매/h 이상 고생산성 에피택시 장비 개발'이다. 과제 수행기간은 이달부터 2028년 12월까지다. 총 연구비는 100억원이다. 비아트론은 더블유지에스, 연세대 산학협력단, 한국표준과학연구원 등과 컨소시엄을 구성했다. 비아트론은 "유수 반도체 전공정 장비업체와 경합한 끝에 단독 주관기관으로 선정됐다"고 강조했다. 비아트론이 밝힌 차별화 요소는 ▲생산성(UPH) 극대화를 위한 급속온도 가변형 챔버·클러스터 시스템 개발 역량 ▲다층막 결함·파티클·두께 등을 실시간 확인하는 인-시스템(In-system) 검사·계측 광학 모듈 개발 역량 등이다. 비아트론은 "인공지능(AI)이 주도하는 고성능 컴퓨팅 수요 확대가 D램 디자인 룰(rule) 변화를 촉진해 3D D램으로 진화하고 있다"며 "기존 에피택시 화학기상증착(CVD) 장비 생산성 한계(UPH 1매 이하)는 핵심 병목 중 하나"라고 밝혔다. 이어 "3D D램 제조 공정은 Si·SiGe 100단 증착부터 시작하는데, 기존 장비 생산성으로는 3조원 이상 비용이 발생한다"며 "비아트론 에피택시 CVD 장비는 기존 장비 대비 5배 이상 생산성과 인-시스템 계측·검사를 통한 모니터링으로 수율을 극대화할 수 있다"고 밝혔다. 비아트론은 "내년부터 글로벌 반도체 업체와 양산성 평가를 시작할 예정"이라고 덧붙였다. 비아트론은 5년 전부터 첨단 에피택시 CVD 장비와 어드밴스드 패키징 장비 등 반도체 장비로 사업을 확대하려 노력해왔다. 최근 공개한 2025년 사업보고서에서 사업화를 기대하는 반도체 장비가 ▲레이저 기반 RT(Rapid Thermal)-CVD ▲다이 본더 ▲레이저 어시스티드 본더(LAB) ▲하이브리드 본더 등이라고 밝혔다. 비아트론이 사업보고서에서 해당 반도체 장비 사업화를 추진 중이라고 밝힌 것은 이번이 처음이다. 비아트론은 "지난 2023년 1조6000억원 규모였던 에피택시 장비 시장은 3D DRAM이 본격 등장하는 2030년대에 폭발적 성장이 예상된다"며 "올해는 지난 5년간 노력을 조금씩 보여드릴 수 있을 것"이라고 밝혔다.

2026.05.06 14:51이기종 기자

비아트론, 반도체 장비 사업화 추진 공식화

디스플레이 열처리 장비가 주력인 비아트론이 반도체 장비 신사업 추진을 공식화했다. 비아트론은 최근 공개한 사업보고서에서 사업화를 기대하는 반도체 장비가 ▲레이저 기반 RT(Rapid Thermal)-화학기상증착(CVD) ▲다이 본더 ▲레이저 어시스티드 본더(LAB) ▲하이브리드 본더 등이라고 밝혔다. 비아트론이 사업보고서에서 해당 반도체 장비 사업화를 추진 중이라고 밝힌 것은 이번이 처음이다. 비아트론은 지난 2022~2023년께부터 이들 장비를 개발해왔다. 디스플레이 장비에 치우친 매출 구조를 다변화하는 것이 목적이다. 비아트론에서 우선 사업화를 기대하는 반도체 장비는 레이저 기반 RT-CVD인 것으로 알려졌다. 이 장비는 대면적 면발광 레이저를 이용한 실리콘(Si) 기반 에피택시 증착장비다. 온도를 정밀하게 제어하고, 빨리 조절해 다층 에피막을 만들 수 있다. 실리콘과 실리콘 사이에 실리콘저마늄(SiGe)막을 얇게 적층하는 것도 가능하다. 비아트론은 지난 2022~2024년 산업통상자원부의 '기존 장비 대비 200%의 고 생산성을 갖는 5나노미터(nm) 이하 반도체용 다층 실리콘실리콘저마늄(SiSiGe) 에피택시 장비 개발' 국책과제를 수행했다. 사업보고서의 연구개발 실적과 현황에서도 '3D 메모리용 에피택시 증착장비'를 개발 중이라고 처음 소개했다. 이 시장 주요 업체는 어플라이드 머티어리얼즈(AMAT)와 ASM 등이다. LAB는 칩에 레이저로 1~2초가량 국부적으로 가열해 다이와 기판을 붙이는 장비다. LAB는 면발광 레이저를 사용해 기존 기술로 구현이 어려웠던 대면적 솔더링 본딩 공법을 지원한다. 온도 균일도가 높아 첨단 반도체 패키징 휨 문제와 열적 불량을 해결할 수 있다. LAB 시장에서 주력 업체는 프로텍이다. 비아트론은 향후 메모리 등 LAB 적용 품목 확대를 기대하는 것으로 알려졌다. 하이브리드 본더는 웨이퍼와 이종 칩 다이를 붙이는 장비다. 이 부문에선 베시가 선도 업체다. 비아트론은 반도체 장비 외에, 반도체 기판 장비도 신사업으로 추진해 왔다. 반도체 기판 장비는 자회사인 비아트론시스템이 맡고 있다. 비아트론은 지난 2023년께 하이엔드 반도체 기판 플립칩(FC)-볼그리드어레이(BGA) 생산에 필요한 아지노모토 빌드업 필름(ABF) 라미네이터로 소량 매출을 올렸다. 비아트론의 지난해 실적은 매출 651억원, 영업이익 92억원 등이다. 전년비 매출과 영업이익은 각각 12%, 36% 올랐다. 지난해 매출(651억원)에서 디스플레이 장비 매출은 88%인 572억원이었다. 과거에는 LG디스플레이 매출 비중이 컸지만, 최근에는 중국 패널 업체 매출 비중이 커졌다.

2026.04.02 15:44이기종 기자

플레이티지, 반도체 핵심부품 '압력제어장치' 국산화 성공

반도체 핵심부품 전문기업 플레이티지가 국내 대기업 제조사에 압력제어장치를 초도 납품하기 시작하며 고부가가치 핵심부품 사업 확대에 나섰다. 플레이티지는 해외 기업이 독점 공급하고 있는 반도체 증착장비(ALD·CVD) 핵심부품인 압력제어장치를 국내 기업 최초로 대기업 제조사에서 퀄(품질검증)을 받아 양산에 적용했다고 31일 밝혔다. 압력제어장치는 반도체 장비 조건에 맞춰 압력을 정밀하게 제어하며, 소자 품질에 직접적인 영향을 주는 핵심부품이다. 그동안 미국과 유럽 등 외산 제품에 전량 의존해왔으나, 국내 기업 최초로 대기업 제조사에서 품질검증을 통과해 양산 적용에 성공하는 쾌거를 이뤄냈다. 글로벌 압력제어장치 시장은 약 10억달러(1조4천억원) 규모로 추산되며, 글로벌 반도체 시장 확대에 따라 연평균 11% 가량 성장할 것으로 전망된다. 플레이티지는 이번 양산검증을 바탕으로 국내외 시장 확대와 함께 글로벌 경쟁력 강화에 박차를 가할 계획이다. 한편 플레이티지 압력제어기술은 지난해 산업통상자원부로부터 핵심전략기술로 공식 확인 받았다. 반도체 고집적 미세화와 함께 ALD 공정 등 정밀 제어가 요구 되는 분야에서 압력제어기술의 중요성은 더욱 커지고 있다. 김시습 대표이사는 "국내 장비회사 및 소자회사의 협력과 지원이 없었다면 불가능했을 것”이라며 “향후 고부가가치 핵심부품 사업 비중을 확대해 수익성을 극대화하는 동시에 중장기 성장 모멘텀을 확보해 나갈 것”이라고 말했다.

2025.07.31 10:31장경윤 기자

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