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'패터닝'통합검색 결과 입니다. (3건)

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LGD, IMID서 '비-FMM' OLED '플립' 첫 공개...애플 IT OLED 시장 겨냥

LG디스플레이가 파인메탈마스크(FMM)를 사용하지 않고 유기발광다이오드(OLED) 적녹청(RGB) 서브픽셀을 만드는 '플립'(FLiPP:FMM-Less innovative Pixel Patterning) 기술을 국제정보디스플레이학술대회(IMID) 2026에서 처음 전시한다고 19일 밝혔다. IMID 2026은 부산 벡스코에서 18~21일 나흘간, 본 행사는 19~21일 열린다. LG디스플레이가 자체 개발한 플립 기술을 공개한 것은 이번이 처음이다. 본지는 지난 12일 '애플, 첫번째 OLED 아이맥에 삼성D 기술 적용 계획...LGD, 다음 노릴 듯' 기사에서 "LG디스플레이가 20인치대 플립 제품을 18~21일 부산에서 열리는 IMID 행사에서 전시하는 방안을 검토 중"이라고 보도한 바 있다. LG디스플레이는 "플립은 기존에 표준으로 여겨지던 OLED 공정인 FMM 방식을 뛰어넘어, FMM 없이 픽셀을 형성하는 OLED 혁신 기술"이라고 밝혔다. FMM은 미세한 구멍이 뚫린 금속 그물망이다. FMM 방식은 기판 위에 금속으로 된 그물망을 밀착한 뒤, RGB 유기물을 FMM 구멍에 맞춰 순서대로 증착해 픽셀을 만든다. FMM 방식은 크기·해상도 변경 시 FMM을 추가 제작해 원가 부담이 커지고, 대형 마스크는 금속 특성상 중력에 의한 중앙부 처짐으로 구멍 오차가 발생해 색 혼합 불량이 생기는 경우도 발생했다. LG디스플레이는 "세계 최고 대형 화이트(W)-OLED 기술 노하우를 보유한 LG디스플레이는 FMM을 제거하고도 OLED 패터닝이 가능한 기술을 독자 개발해 플립을 완성했다"며 "플립은 기판 전체에 RGB 화소를 순서대로 정확한 위치에 도포하고 고정한 뒤, 자외선(UV) 빛으로 필요 없는 부분은 정밀하게 지우는 방식으로 픽셀을 패터닝한다"고 밝혔다. LG디스플레이는 "플립 도입으로 FMM으로 인한 불량을 줄이고, 픽셀 사이 FMM이 차지하던 빈 공간을 없애 발광효율을 크게 높이는 등 생산효율을 혁신할 수 있다"고 강조했다. 이어 "플립은 전체 디스플레이 중 픽셀이 차지하는 면적인 개구율을 FMM 방식 대비 55% 높였다"며 "플립은 FMM 대비 휘도를 1.6배 높이거나, 수명을 2.4배 늘리거나, 소비전력을 13% 저감할 수 있다"고 덧붙였다. LG디스플레이는 "'꿈의 기술'로 불리는 플립을 계기로 OLED 기술 주도권을 강화하는 동시에 시장 차별화에도 박차를 가할 계획"이라고 밝혔다. LG디스플레이가 직접 밝힌 것은 아니지만, LG디스플레이는 지난해 5월에 이어 올해 7월에도 플립을 상표로 출원(신청)했다. 지난해 5월 출원한 상표는 'FLiPP'만 있었지만, 올해 7월 출원한 상표에는 추가 설명(FMM Less innovative Pixel Patterning)을 포함했다. 일반 공개를 앞두고 설명을 추가한 것으로 보인다. LG디스플레이는 플립 기술을 향후 애플 IT 제품 OLED에 적용한다는 목표를 갖고 있는 것으로 알려졌다. LG디스플레이는 IMID 2026 전시 부스를 'OLED, 인공지능(AI) 시대를 이끄는 핵심 기술'을 주제로 꾸몄다. 부스는 ▲탠덤 기술 ▲차세대 기술 2개 테마로 구성했다. 대형·중소형·차량용 등 OLED 라인업을 소개한다. OLED와 차세대 디스플레이 연구논문도 발표한다. LG디스플레이의 차세대 OLED TV 패널 구동 기술 'HDS'(Hyper Double Scanning)는 IMID '올해의 디스플레이 대상'을 받았다. 이 상은 올해 상용화한 제품 중 가장 뛰어난 제품에 수여한다. HDS는 데이터 전송속도를 2배 높여 픽셀 구동 방식을 혁신한 차세대 OLED 구동 기술이다. HDS를 적용한 LG디스플레이 OLED TV 패널 주사율은 기존 144헤르츠(Hz)에서 165Hz로 15% 향상됐다. 이 주사율은 OLED TV 패널 기준 최고 수준이다. LG디스플레이는 자체 개발한 발열 개선 설계·제어 알고리즘과 패널 내 구동 회로 설계로 HDS 완성도를 높였다. 이 기능들은 패널 온도를 안정적으로 조절하며, 데이터 전송 속도 증가로 복잡해진 배선 경로를 최적화해 베젤도 얇게 유지시킨다. LG디스플레이는 HDS를 OLED TV 패널 전 제품에 적용해 양산 중이다. 최영석 LG디스플레이 최고기술책임자(CTO)는 "W-OLED 독자 기술과 노하우를 집약해 '꿈의 기술'로 불리는 차세대 OLED 패터닝 '플립' 구현에 성공했다"며 "이번 IMID 참가를 계기로 차세대 OLED 기술을 선도하고 시장 차별화를 가속하겠다"고 말했다.

2026.08.19 10:00장경윤 기자

삼성전자, 1나노부터 고개구율 EUV 기술 적용

삼성전자가 이르면 오는 2030년께 상용화될 1나노미터(nm) 공정부터 노광 기술 혁신에 나선다. 차세대 극자외선(EUV) 기술인 '고개구율(High-NA) EUV'를 1나노에 양산 적용할 계획으로, 현재 상용화를 위한 기술 개발에 집중하고 있다. 박창민 삼성전자 마스터는 11일 경기 수원컨벤션센터에서 열린 '2026 차세대 리소그래피+패터닝 학술대회(NGL 2026)'에서 회사의 노광 기술 로드맵에 대해 이같이 밝혔다. 노광은 반도체 웨이퍼에 회로를 새기는 공정을 뜻한다. 삼성전자는 8나노 이하의 첨단 파운드리 공정부터 EUV를 양산 적용해 왔다. EUV는 기존 반도체 노광 공정 소재인 불화아르곤(ArF) 대비 빛의 파장이 13분의 1 수준(13.5나노미터)으로 짧다. 덕분에 ArF로 여러 번 노광(멀티 패터닝)해야 하는 초미세 공정을 더 적은, 혹은 단일(싱글 패터닝) 공정으로 구현할 수 있다. 패터닝 수가 줄면 제조비용 저감 및 생산성 향상에 유리하다. 삼성전자는 차세대 EUV 기술인 High-NA EUV 개발에도 매진하고 있다. 본격적인 양산 적용 목표는 1나노(A10; A는 0.1나노 단위인 옹스트롬) 공정으로 보고 있다. 박 마스터는 "2나노, 1.4나노 등에서 High-NA EUV를 양산 적용하고 싶었으나 아직은 기술적 보완이 필요한 상황"이라며 "A10 이하부터 High-NA EUV가 필요할 것으로 보고, 다양한 협력사들과 공동 개발을 진행하고 있다"고 설명했다. 이를 고려한 삼성전자의 High-NA EUV 양산 적용 시점은 오는 2030년께로 관측된다. 삼성전자는 현재 2나노 공정까지 상용화에 성공해, 오는 2029년 1.4나노(SF1.4) 공정을 양산할 계획이다. 2030년에는 1.4나노의 개선 버전인 SF1.4+과 1나노 공정 양산에 나설 것으로 알려졌다. High-NA EUV는 렌즈의 개구수(NA)를 기존 0.33에서 0.55로 끌어올린 기술이다. 개구수는 빛을 모으는 집광 능력을 뜻한다. 해당 수치가 높을수록 해상력이 향상돼, 더 미세한 회로를 구현하는 데 용이하다. High-NA를 활용하면 기존 EUV로도 멀티 패터닝을 진행해야 했던 초미세 공정을 싱글 패터닝으로 구현할 수 있게 된다. 덕분에 비용 효율성이 높아지는 효과를 얻을 수 있다. 단 한번만 패터닝을 진행하므로 회로 설계도 더 자유롭게 진행할 수 있다. 다만 High-NA EUV는 기술적 난이도가 매우 높고, 설비 역시 매우 고가에 속한다. 마스크, 펠리클 등 관련 소재 기술도 고도화돼야 한다. 때문에 업계는 향후 공정에서 EUV 멀티 패터닝과 High-NA EUV 싱글 패터닝이 혼용될 것으로 보고 있다. 박 마스터는 "1.4나노 및 1나노 공정까지는 0.33 NA EUV 기반의 멀티 패터닝이 메인 스트림이 될 것"이라며 "이후의 차세대 공정은 High-NA 패터닝이 메인이 될 것이라고 생각한다"고 말했다.

2026.08.11 14:16장경윤 기자

기계연, 디지털 노광스캐너 개발…유연전자소자 대량생산 길 열어

잘 휘어지는 반도체 기판에 회로를 연속으로 정확하게 새길수 있는 디지털 마스크리스 노광(리소그래피) 시스템이 개발됐다. 노광은 반도체 핵심 기술이다. 개발은 장원석 한국기계연구원 장원석 나노융합연구본부장 연구팀이 진행했다. 29일 한국기계연구원에 따르면 이들이 개발한 기술은 크게 3개다. 실시간 패턴 보정이 가능한 디지털 리소그래피 스캐너와 이 스캐너를 롤투롤 이송시스템과 결합, 유연전자소자 연속 패터닝 기술을 성공적으로 구현했다. 또 DMD(디지털 마이크로-미러 디바이스) 기반 디지털 노광 기술과 초정밀 이송 제어 기술을 융합해 기판 변형과 위치 오차를 실시간으로 보정할 수 있는 시스템도 구축했다. 이번에 개발한 롤투롤 디지털 리소그래피 시스템은 DMD 기반 디지털 노광 기술을 활용해 원하는 영역에만 자외선을 조사하는 방식이다. 최소 선폭은 10㎛ 이하 고해상도 패터닝 성능을 구현했다. 기판 이송 과정에서 발생하는 사행과 장력 변형을 실시간 측정·보정해 안정적인 패턴 형성도 가능하다. 연구팀은 회전하는 곡면 롤 위에서 직접 패터닝이 이루어지는 라인빔 노광 구조를 적용했다. 보조 기판 없이 유연기판을 직접 이송하면서, 미세한 비틀림이나 흔들림을 실시간 비전 측정으로 즉각 보정한다. 별도 노광 마스크를 제작할 필요 없이, 소프트웨어 설계만으로 다양한 패턴을 즉각 구현할 수 있어 제품 개발 기간과 생산 비용을 획기적으로 절감할 수 있다. 또한, 유연기판을 보조 기판 없이 연속 이송하며 직접 패터닝하기 때문에 기판 길이에 제한이 없는 대면적 양산이 가능하다. 이원섭 기계연 나노리소그래피연구센터 선임연구원은 "나노공정은 반도체 앞단 공정이고, 우린 HBM(고대역메모리) 같은 후공정 PCB기판을 타깃으로 기술 개발을 진행한 것"이라며 "마스크가 필요없는 공정 등은 기존 반도체 라인에 바로 접목해도 무리없을 수준"이라고 설명했다. 장원석 본부장은 “유연 PCB를 비롯해 고해상도 유연전자소자, 반도체 패키징 공정 등 다양한 산업 분야에 적용될 것으로 기대한다”며 “향후 롤 표면 패터닝을 위한 디지털 노광 공정에도 활용할 수 있어 응용 범위가 더욱 확대될 것"으로 전망했다. 한편 연구팀은 기계연 기본사업인 '실시간 보정형 롤투롤 패터닝 장비 핵심기술 개발'과제를 통해 총 3억2,000만원의 기술료 수익을 거뒀다.

2026.06.29 09:33박희범 기자

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