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'적층'통합검색 결과 입니다. (4건)

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금속 잘 깎더니 쌓기까지…DN솔루션즈, 공작기계 신시장 연다

DN솔루션즈가 금속 적층 제조 시장 진출을 선언했다. 전통적 공작기계의 깎아내기 방식과 달리 재료를 한 층씩 쌓는 기술로 새로운 가능성을 제시한 것이다. 금속 적층 제조는 3차원(3D) 모델링 데이터를 기반으로 금속 소재를 층층이 쌓아 3차원 형상을 구현하는 기술이다. 오는 2030년까지 약 830억 달러(122조원) 규모로 성장할 것으로 전망된다. DN솔루션즈는 금속 적층 분야 공략을 위해 최근 인도 최대 금속 적층 제조 장비·솔루션 공급업체인 인텍에 지분을 투자하고 전략적 파트너십을 체결한 바 있다. 2일 비노 순타라쿠마란 DN솔루션즈 상무는 지난 2일 부산 벡스코에서 개막한 DN솔루션즈 자체 국제 공작기계 전시회 DIMF 2025에서 신제품 DLX 시리즈를 소개했다. 비노 상무는 "적층 제조는 현대 생산에서 게임 체인저로 확고히 자리를 잡았다"며 "더 빠른 결과를 제공하고 비용을 절감하며, 불가능하다고 여겨졌던 디자인 가능성을 새롭게 열어준다"고 말했다. 그러면서 "단순히 시간과 비용을 절감하는 기술이 아니라, 가치 창출을 재정의하는 것"이라며 "산업 전반에 걸쳐 유연하고 품질이 보장된 솔루션에 대한 수요가 늘어나면서 적층 제조는 필수적 요소"라고 덧붙였다. DLX 시리즈는 금속 레이저 파우더 베드 퓨전(LPDF) 기술을 사용하는 제품이다. 이 기술은 금속 적층 제조 방식 중 가장 발전된 기술이자 활용도가 높은 공법으로 꼽힌다. 현재 금속 적층 시장의 약 80%를 차지하고 있다. 다품종 소량 생산에서 특히 진가를 발휘한다. 기존 깎아내는 공작기계 방식에 비해 부품 제작 시간과 비용을 대폭 줄였다. 도구 교체 없이 여러 디자인을 구현할 수 있기 때문에 시제품 제작에 특화됐다는 평가를 받는다. 비노 상무는 "적층제조는 복잡한 기하학적 구조와 경량 디자인을 구현한다"며 "자동차와 항공우주, 의료 기술, 전자 등 고성능 부문에 맞춤 제작된 부품을 제공하기 용이하다"고 강조했다. 김원종 DN솔루션즈 대표는 신제품 공개 현장에서 "적층 방식은 가공 후 조립 과정을 단축하고, 절삭으로 구현이 불가능한 형상을 만들 수 있어 무한한 혁신 가능성이 있다"며 "2030년까지 적층 제조와 절삭 가공의 시너지를 극대화하겠다"고 말했다. 김 대표는 "공작기계를 넘어, 제조 솔루션 제공자의 입지를 강화하기 위해 혁신 기술 기업에 대한 전략적 투자를 계속하고 있다"며 "제조 공정 전반의 오토메이션 플랫폼을 제공하고, 적층가공 등 다양한 가공 방식을 지원하기 위한 것"이라고 설명했다. 김 대표는 이날 DN솔루션즈 장비 부품(스핀들 실린더 프론트 캡)을 기존 방식 아닌 적층 방식으로 제작하니 약 20%의 성능 개선 효과가 있었다고도 소개하기도 했다. DN솔루션즈는 지난 2023년 독일의 공작기계용 CAD·CAM 소프트웨어 개발사 모듈웍스, 작년 한국·미국 기반의 인공지능(AI) 플랫폼 기업 카본블랙, 지난 3월 국내 로봇 자동화 기업 뉴로메카에 각각 지분을 투자하고 협력 중이다.

2025.04.03 11:00신영빈

DN솔루션즈, 印 인텍과 파트너십…"금속 적층제조 강화"

공작기계 업체 DN솔루션즈는 인도 최대 금속 적층 제조 장비·솔루션 공급업체인 인텍과 지분 투자 및 전략적 파트너십 계약을 체결했다고 27일 밝혔다. 금속 적층 제조는 3차원(3D) 모델링 데이터를 기반으로 금속 소재를 층층이 쌓아 3차원 형상을 구현하는 기술이다. 이번 파트너십으로 DN솔루션즈의 금속 절삭 가공 분야의 전문성과 인텍의 금속 적층 제조를 위한 360° 종합 솔루션 결합이 가능해졌다. DN솔루션즈는 금속 적층 분야에서 가장 활용도가 높고 발전된 기술인 레이저 파우더 베드 퓨전(LPBF) 기술을 추가하며 제품 포트폴리오를 확대할 수 있게 됐다. LPBF 기술은 금속 적층 제조 시장의 약 80%를 차지한다. 금속 분말을 얇게 도포한 후 레이저를 이용하여 금속 분말을 선택적으로 용융 및 융합하여 적층하는 방식으로 작동한다. 적층을 위한 플랫폼이 아래로 이동하면서, 추가 금속 분말이 도포되고 다시 용융 및 융합하는 과정을 반복적으로 수행해 점진적으로 최종 형상을 만든다. 업계 전망에 따르면 이 장비 시장은 2022년 약 1조7천800억원(11억8천만 유로)에서 연평균 26% 성장해 2027년에는 약 5조6천600억원(37억4천만 유로) 규모에 이를 것으로 예상된다. DN솔루션즈는 공작기계를 넘어, 제조 솔루션 제공자의 입지를 강화하기 위해 혁신 기술 기업에 대한 전략적 투자를 계속하고 있다. 제조 공정 전반의 오토메이션 플랫폼을 제공하고, 적층가공 등 다양한 가공 방식을 지원하기 위해서다. 앞서 DN솔루션즈는 2023년 독일의 공작기계용 CAD·CAM 소프트웨어 개발사 모듈웍스, 2024년 한국·미국 기반의 인공지능(AI) 플랫폼 기업 카본블랙, 지난 3월 한국 로봇 자동화 기업 뉴로메카 등에 차례로 지분을 투자했고, 각각 긴밀하게 협력 중이다. 김원종 DN솔루션즈 대표는 "이번 협력으로 금속 절삭 뿐만 아니라 금속 적층 제조까지 포함해 장비, 공정 기술, 소프트웨어 전반의 솔루션을 제공할 수 있게 됐다"며 "다양한 제조업 고객들의 성공을 지원할 수 있을 것"이라고 말했다. 스리다르 발라람 인텍 창립자·CEO는 "인텍의 디지털 지원을 기반으로 하는 360° 솔루션은 기존 시장의 표준을 넘어선다"며 "우리는 부품에서 시작해 개발 초기 단계부터 제조 안정화 및 생산 확대까지 고객과 함께한다"고 말했다. 한편 DN솔루션즈는 최근 인도의 풍부한 설계 역량 활용 계획을 잇따라 발표하며 첨단 제조 분야의 기술 리더십을 강화하고 있다. DN솔루션즈는 인도 벵갈루루 R&D센터를 올해 착공해, 조만간 한국·미국·유럽·중국 등으로 구성된 글로벌 엔지니어링 역량의 한 축을 맡길 예정이다. 인텍과의 파트너십은 이와 별도로 금속 적층이라는 새 분야에서 기술 역량을 강화할 전망이다.

2025.03.27 15:37신영빈

400단 쌓는 삼성·SK, 핵심 본딩 기술·특허는 中에 의존

차세대 낸드 시장에서 삼성전자·SK하이닉스의 주도권이 흔들릴 수 있다는 우려가 제기된다. 400단 이상 적층에 필요한 '하이브리드 본딩' 기술을 중국 YMTC가 선점하고 있어서다. YMTC는 관련 기술을 지속적으로 고도화해, 최근 270단대의 고적층 낸드를 상용화하기도 했다. 반면 국내 기업들은 후발주자로서 여러 내홍을 겪을 가능성이 있다. 우선 신규 기술 적용에 따른 공정전환 및 설비투자가 필요하며, 초기 도입에 따른 수율 안정화도 이뤄내야 한다. YMTC 등이 구축해 놓은 특허 역시 문제다. 실제로 삼성전자의 경우 YMTC와 하이브리드 본딩에 대한 라이센스 계약을 체결한 것으로 파악됐다. V10(10세대) 이상의 낸드부터 YMTC 특허의 영향을 피해갈 수 없게 되면서, 차세대 낸드 사업의 불확실성이 커졌다는 평가다. 24일 업계에 따르면 삼성전자, SK하이닉스 등 국내 주요 메모리 기업들은 400단 이상의 차세대 낸드에 하이브리드 본딩 기술을 적용할 계획이다. ■ 中, 매출 규모는 작지만 '하이브리드 본딩' 낸드에 선제 적용 낸드는 세대를 거듭할수록 셀(Cell; 데이터를 저장하는 단위)을 수직으로 더 높이 쌓는다. 국내 기업들은 300단대 낸드까지는 한 개의 웨이퍼에 셀을 구동하는 회로인 '페리페럴'을 두고, 그 위에 셀을 쌓는 방식을 채택해 왔다. 삼성전자는 이를 COP(셀온페리), SK하이닉스는 페리언더셀(PUC)라고 부른다. 다만 낸드가 400단 이상까지 높아지게 되면 하단부 페리에 가해지는 압력이 심해져 손상이 올 수 있다. 이에 국내 기업들은 셀과 페리를 각각 다른 웨이퍼에서 제조한 뒤, 하나로 합치는 W2W(웨이퍼-투-웨이퍼) 하이브리드 본딩을 채택하기로 했다. 이에 비해 중국 YMTC는 'Xtaking(엑스태킹)'이라는 이름으로 하이브리드 본딩 기술을 약 4년 전부터 선제적으로 양산 적용하고 있다. YMTC는 중국 최대 낸드 제조기업이다. 전 세계 낸드 시장에서 매출 기준으로 5위권 밖에 있으나, 최근 기술적으로 상당한 진보를 거뒀다는 평가를 받고 있다. 지난달 반도체 분석 전문기관 테크인사이츠가 발간한 보고서에 따르면 YMTC는 올해 초 2yy(270단대 추정) 3D TLC(트리플레벨셀) 낸드 상용화에 성공했다. 테크인사이츠는 "YMTC의 2yy 낸드는 당사가 시장에서 발견한 낸드 중 가장 높은 단수의 제품"이라며 "가장 중요한 사실은 해당 낸드가 업계 최초로 비트 밀도를 20Gb/mm2 이상으로 높였다는 것"이라고 설명했다. ■ 삼성·SK, 하이브리드 본딩 초기 도입 시 투자비용·수율 등 열세 YMTC가 이번에 적용한 엑스태킹은 4세대인 '4.x' 버전에 해당한다. YMTC는 이전부터 엑스태킹 기술을 활용해 160단, 192단, 232단 등의 제품을 양산한 바 있다. 그만큼 하이브리드 본딩에 대한 기술 안정화를 이뤄냈다는 평가가 나온다. 최정동 테크인사이츠 박사는 최근 기자와의 서면 인터뷰에서 "YMTC가 16단, 232단보다 더 많은 층을 빠른 시일 내에 구현했다는 게 놀랍다"며 "미국의 규제로 신규 장비 도입이 어려운 상황에서도 식각 및 ALD(원자층증착) 공정, 워피지(웨이퍼가 휘는 현상) 방지 공정 등에서 모두 최적화를 잘 한 것으로 보인다"고 평가했다. 이러한 측면에서, 국내 기업들은 첫 하이브리드 본딩 적용에 따른 여러 과제를 해결해야 할 것으로 관측된다. 특히 삼성전자는 이르면 올 연말부터 V10(430단대 추정) 낸드 양산을 목표로 하고 있어 보다 분주한 대응이 필요하다. 최정동 박사는 "삼성전자는 V10부터 셀을 3번 나눠 쌓는 트리플스택을 적용하고, 총 2장의 웨이퍼를 활용하는 하이브리드 본딩을 사용한다"며 "공정전환과 신규설비 투자 등 변경점이 많기 때문에 오랫동안 하이브리드 본딩을 적용해 온 YMTC 대비 제조비용이 훨씬 높을 수밖에 없다"고 설명했다. ■ 차세대 낸드부터 YMTC 특허 도입 불가피 특허 역시 진입장벽으로 거론된다. 하이브리드 본딩과 관련한 전반적인 기술 특허는 엑스페리(Xperi)와 YMTC, TSMC 3사가 대부분을 차지하고 있다. YMTC도 엑스페리로부터 하이브리드 본딩과 관련한 라이센스 계약을 체결했으며, 이후 낸드와 관련한 자체 특허를 적극 구축한 것으로 알려졌다. 삼성전자가 YMTC와 하이브리드 본딩과 관련한 라이센스 계약을 체결한 이유도 기술적으로 YMTC의 특허 회피가 어렵고, 분쟁 발생 시 최첨단 낸드 사업에 큰 타격이 발생할 수 있다는 우려에서다. 다만 삼성전자가 V10 이후 차세대 낸드부터 어떻게 기술개발 방향성을 설정할지, 또 라이센스에 필요한 비용, 엑스페리 등과의 특허 영향 등이 사업 진행의 주요 변수로 작용할 전망이다.

2025.02.24 14:04장경윤

적층형 산화 그래핀, 해수담수화 시장 재편 할까

GIST 국제 연구팀이 꿈의 소재로 불리는 그래핀을 기반으로 혁신적인 고효율·선택적 분리막 기술을 개발했다. 중동 국가 등의 물부족 문제를 해결할 새로운 방법이라는 것이 연구진의 설명이다. 광주과학기술원(GIST)은 환경·에너지공학부 김인수 교수 국제 공동 연구팀이 그래핀을 소재로 한 적층형 산화 분리막을 개발했다고 15일 밝혔다. 연구팀은 또 적층형 산화 그래핀막에서의 물 분자가 가지는 특이적 투과 현상의 발생 원리도 규명했다. 이 연구는 미국 MIT· 영국 노섬버리아대· 호주 뉴사우스웨일스대· 중국 중산대 연구팀과 공동으로 수행했다. 특정 물질을 걸러내는 분리막은 대부분 고분자 소재로 만들어진다. 그러나 이 같은 고분자 분리막은 막의 두께가 두꺼워짐에 따라 순수(pure water) 투과도가 저항에 의해 큰 폭으로 감소되고 막 소재 및 구조에 따라 큰 차이를 나타내는 단점이 있다. 연구팀은 이 문제 해결을 위해 그래핀을 기반으로 산화 그래핀을 활성층, 다공성 세라믹을 지지층으로 하는 비대칭 분리막을 합성했다. 김인수 교수는 "실험결과 일반 용매 분자들(메탄올, 에탄올 등)은 얇은 적층 산화 그래핀 막(140㎚)조차 거의 투과할 수 없었던 것과 달리, 물 분자의 경우 산화 그래핀 활성층 두께가 15배 증가(140㎚→ 2000㎚)함에도 투과도가 약 40% 정도만 감소하는 특이 현상을 발견했다"고 말했다. 연구팀은 열역학적 분석을 통해 나노 수준의 매우 제한된 공간에서 물 분자가 기체에서 액체와 같은 유체로 변환되는 것을 발견했다. 또 제한된 공간에서 반-상변화가 일어나 짧은 경로에서도 많은 양의 물 분자가 이동 가능함을 확인했다. 김인수 교수는 “적층형 산화 그래핀 분리막에서 일어나는 물 분자 이동 기작의 전이 현상을 규명했다는 데 가장 큰 의의가 있다”고 설며하며 “향후 고도수처리, 해수담수화 및 기체 분리막 개발에 새로운 패러다임을 제시할 수 있을 것"으로 기대했다. 이 연구는 한국연구재단, 과학기술정보통신부 지원을 받았다. 연구결과는 국제학술지 '케미컬 엔지니어링 저널'(1월3일자)에 온라인으로 게재됐다. 한편, 김인수 교수는 지난 2021년 혈액투석용 중공사 분리막 제조 기업 ㈜이노셉을 설립하고 현재 최고기술책임자(CTO)를 맡고 있다.

2025.01.15 09:54박희범

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