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'유진테크'통합검색 결과 입니다. (2건)

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'코쿠사이와 특허분쟁' 유진테크, 먼저 웃었다

일본 코쿠사이와 반도체 공정용 원자층증착(ALD) 장비를 놓고 특허분쟁 중인 유진테크가 먼저 웃었다. 쟁점특허 4건 중 1건의 권리범위(청구항) 대부분 무효라는 특허심판원 판단이 특허법원에서도 유지됐다. 특허법원은 28일 코쿠사이의 특허 '기판 처리장치 및 반도체 장치의 제조방법'(등록번호 1037961) 관련 심결취소소송 3건을 모두 기각했다. 3건 중 2건은 특허심판원의 무효심판 판단(심결)에 대한 항소, 나머지 1건은 특허심판원의 정정심판 심결에 대한 항소였다. 특허법원이 3건 모두 기각하면서 특허심판원 판단이 유지됐다. 앞서 특허심판원은 지난 2024년 12월 코쿠사이의 '961 특허 청구항 2~6항, 8~18항, 20항이 무효라고 판단했다. 유진테크는 2024년 4월 무효심판을 청구하며 해당 특허의 2~18항, 20항이 무효라고 주장했는데, 7항을 빼고는 특허심판원이 모두 받아들였다. 당시 특허심판원 심결 중 만족하지 못하는 부분에 대해 코쿠사이와 유진테크가 각각 특허법원에 심결취소소송을 제기했던 것인데, 특허법원은 특허심판원 결정에 오류가 없다고 판단했다. 코쿠사이는 특허심판원에서 2024년 12월 무효심판 심결이 나온 뒤 2025년 4월 정정심판을 청구했지만, 지난 1월 기각됐다. 여기에 대해서도 코쿠사이가 항소했지만 특허법원은 받아들이지 않았다. 정정심판은 일반적으로 특허가 무효가 될 가능성이 클 때 권리범위를 좁히기 위해 사용한다. 유진테크는 코쿠사이가 침해했다고 주장하는 특허 4건 중 1건('961 특허)에 대해선 우선 유리한 고지를 점했다. 다만, 특허심판원에 이어 특허법원도 유효라고 판단한 '961 특허의 청구항 7항은 변수가 될 수 있다. 이번 특허법원 판결에 대해 양측 모두 대법원에 상고할 수 있지만, 특허사건은 대법원에서 결론이 바뀌는 경우가 많진 않다. 이번 판결에서 다룬 '961 특허는 웨이퍼의 가장자리(외주부)에 비해 중심부까지 가스가 잘 도달하지 않아 막이 불균일하게 형성되는 문제를 해결하기 위해, 처리가스 노즐 양옆에 불활성 가스(N2 등)를 분사하는 한 쌍의 노즐을 배치하는 기술이 핵심이다. 코쿠사이의 또 다른 특허 '반도체 장치의 제조방법, 기판 처리장치 및 프로그램'(등록번호 2472052)에 대한 특허법원 판결은 7월 나올 예정이다. '052 특허를 상대로 유진테크가 특허심판원에 청구했던 무효심판은 2024년 12월 기각됐다. 유진테크는 특허법원에 항소했다. 코쿠사이는 '052 특허에 대해서도 특허심판원에 정정심판을 청구했는데, 2025년 12월 기각됐다. 이에 대해서도 코쿠사이는 특허법원에 항소했다. 또, 코쿠사이의 '기판 처리장치, 반도체 장치의 제조방법 및 기록매체'(등록번호 1969277)에 대해 특허심판원은 2025년 12월 일부 청구항이 무효라고 심결했다. 당시 특허심판원이 무효라고 판단한 '277 특허의 청구항은 1~3항, 7항, 9~20항이다. 유효라고 판단된 청구항은 4항, 5항, 6항, 8항이다. 코쿠사이와 유진테크 모두 불복하고 특허법원에 항소했다. '277 특허에 대한 특허법원 소송 변론은 아직 끝나지 않았다. 나머지 특허 '기판 처리장치, 반도체 장치의 제조방법, 플라스마 생성부, 프로그램, 플라스마 생성방법, 전극 및 반응관'(등록번호 2149644)에 대한 특허심판원 판단은 아직 나오지 않았다. 코쿠사이는 삼성전자의 특정 공정용 ALD 장비를 독점 공급해왔는데, 유진테크가 이 시장에 진입하자 지난 2024년 특허침해소송을 제기했다. 소송에 사용한 특허는 4건이다. 유진테크는 이들 특허 4건에 대해 특허무효심판을 청구했다.

2026.05.28 15:21이기종 기자

유진테크 "코쿠사이 ALD 특허 무효" vs. 코쿠사이 "선행발명과 차이 뚜렷"

일본 코쿠사이와 특허분쟁 중인 유진테크가 코쿠사이 특허는 무효라는 주장을 되풀이했다. 코쿠사이는 유진테크가 특허 4건을 침해했다고 주장해 왔다. 코쿠사이는 삼성전자의 특정 공정용 원자층증착(ALD) 장비를 독점 공급해왔는데, 유진테크가 이 시장에 진입하자 특허침해소송을 제기했다. 21일 특허법원에서 열린 심결취소소송 2건 변론기일에서 유진테크와 코쿠사이는 상반된 주장을 펼쳤다. 쟁점 특허는 코쿠사이의 '반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 장치 및 프로그램'(등록번호 2472052)이다. 해당 특허는 티타늄 원료가스(TiCl4)와 실리콘 원료가스(SiH4)를 기판에 동시에 분사하고, 특정 온도 조건에서 두 가스가 웨이퍼 표면에서 흡착해 직접 화학반응하는 원리를 설명한다. 티타늄 가스의 염소(Cl)와 실리콘 가스의 수소(H)가 서로 결합해 염산(HCl) 가스 형태로 배출되면서 막 내부에 불순물이 쌓이지 않는다. 이때 염산(HCl) 가스를 빨리 배출해야 이후 질소 원료가스(NH3)를 공급할 때 박막 형성을 방해하는 염화암모늄(NH4Cl)이 생성되는 것을 막을 수 있다. 불순물과 염화암모늄 생성이 차단된 상태에서 질소 원료가스(NH3)로 초기층을 질화(개질)한다. 확산 방지를 맡는 티타늄실리콘질화막(TiSiN) 배리어막이 충분한 두께로 쌓일 때까지 이 과정을 반복한다. 유진테크는 해당 특허에 대해 지난 2024년 특허심판원에 무효심판을 청구했는데 기각되자 이에 불복하고 특허법원에 심결취소소송을 제기했다. 코쿠사이는 같은 특허에 대해 2025년 특허심판원에 정정심판을 청구했는데 기각되자, 심결취소소송을 제기했다. 정정심판은 일반적으로 특허가 무효가 될 가능성이 있을 때 특허 권리범위를 좁히기 위해 사용한다. 이날 변론기일에서 유진테크는 "해당 코쿠사이 특허는 명세서에서 제시한 온도조건을 충족하면 화학 법칙상 발생하는 메커니즘을 기재한 것에 불과해 특허성이 없다"고 주장했다. 코쿠사이는 "특허 무효화 근거로 제시한 선행발명에는 관련 공정이 구체적으로 설명되지 않았고, 두 원료가스 유량비를 제어해 이후 질화 공정에서 박막 형성을 방해하는 염화암모늄(NH4Cl) 생성을 막는 것이 특허의 콘셉트"라고 맞섰다. 코쿠사이는 해당 특허 무효분쟁과 관련한 법원 최종 판결이 나오기 전에, 정정분쟁과 관련한 법원 선고가 나올 수 있도록 해달라고 재판부에 요청했다. 특허 유무효 판단이 먼저 끝날 경우, 실무상 특허 정정이 어려워지는 상황을 피하려는 의도로 보인다. 이날로 두 업체의 심결취소소송 2건 변론은 끝났다. 특허법원은 7월 선고할 예정이다. 유진테크는 코쿠사이의 나머지 특허 3건에 대해서도 2024년 특허심판원에 무효심판을 청구했다. 2건에 대해선 특허심판원에서 일부 청구만 받아들여졌다. 해당 2건 모두 양측이 불복했고, 특허법원에 올라갔다. 나머지 1건에 대한 특허심판원 판단은 아직 나오지 않았다. 두 업체 특허분쟁은 유진테크의 배치 타입 ALD 시스템 '해리어'(Harrier) 시리즈와 관련돼 있다. 코쿠사이는 삼성전자 특정 공정에 관련 ALD 장비를 독점 공급해왔는데 유진테크가 이원화 납품하자, 지난 2024년 2월 서울중앙지방법원에 특허침해소송을 제기했다. 원고는 일본 코쿠사이 엘렉트릭과 한국 자회사 국제엘렉트릭코리아다.

2026.05.21 17:54이기종 기자

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