"삼성·SK하이닉스 대형 팹 투자에 대응 준비 마쳤다"
"한국은 자이스의 모든 기술이 진출해 있는 핵심 시장입니다. 특히 반도체 산업의 경우, 초미세 공정 개발 및 대규모 팹 투자가 일어나고 있습니다. 자이스는 이에 대응하기 위한 준비를 이미 마쳤습니다." 야네 제후젠 자이스코리아 신임 지사장은 최근 서울 송파구에 위치한 자이스코리아 본사에서 기자와 만나 국내 사업 전략에 대해 이같이 밝혔다. 야네 제후젠 지사장은 지난 2012년 자이스에 입사해, 특수운영프로젝트 총괄을 거쳐 제조 프로젝트 매니저와 산업우수성총괄 등을 거쳤다. 지난 2021년부터는 반도체사업부 공급망관리총괄을 맡은 바 있다. 지난 8월 자이스코리아 신임 지사장으로 선임됐다. 자이스에게 있어 한국 시장은 매우 중요한 의미를 지닌다. 지난 1846년 독일에 설립된 자이스는 반도체·의료 등 다양한 첨단 산업에 활용되는 광학 부품을 생산하고 있다. 특히 전 세계 유일의 극자외선(EUV) 노광장비 기업 ASML에 고성능 렌즈를 독점 공급하고 있어, 주요 반도체 기업인 삼성전자·SK하이닉스와도 사업적 연관성이 깊다. 야네 제후젠 지사장은 "한국은 자이스의 모든 기술이 진출해있는 대단히 중요한 시장으로, 반도체만이 아니라 헬스케어, 산업용 연구, 현미경, 안과 시술 분야에서도 막대한 영향력을 보유하고 있다"며 "한국 고객사와 긴밀한 파트너십을 구축하고, 고객의 여정을 깊이 이해해 이를 기반으로 자이스 그룹 전체의 혁신으로 발전시키는 것이 목표"라고 말했다. ASML 핵심 파트너 자이스, '고개구율(High-NA) EUV' 솔루션 선제적 개발 자이스의 광학 솔루션은 반도체 공정 미세화 추세에 따라 더 많은 각광을 받을 것으로 기대된다. 현재 반도체 업계는 수 나노미터(nm) 수준을 넘어, 옹스트롬(A; 0.1나노) 단위의 초미세 공정을 개발 중이다. 야네 제후젠 지사장은 "더 미세한 소자를 구현하려면 스크래치나 결함이 적은 대형 광학 시스템과 우수한 해상도와 안정성의 계측 기술이 필요하다"며 "반도체 초미세화의 대안인 최첨단 패키징 영역에서도 정밀한 계측 기술을 확보하는 것이 매우 중요하다"고 말했다. 반도체 미세화의 핵심 기술 중 하나는 고개구율(High-NA) EUV다. EUV는 기존 반도체 노광 공정에 쓰이던 불화아르곤(ArF) 대비 빛의 파장이 13분의 1 수준(13.5나노)으로 짧은 광원이다. 덕분에 7나노 이하의 시스템반도체, 10나노 초중반급 D램 등에 적용되고 있다. High-NA EUV는 렌즈의 개구수(NA)를 기존 0.33에서 0.55로 끌어올린 기술이다. 개구수는 빛을 모으는 집광 능력으로, 해당 수치가 높을수록 해상력이 향상된다. 향후 2~3년 내 본격 양산에 투입될 전망이다. 야네 제후젠 지사장은 "자이스는 이미 6년 전부터 High-NA EUV 포토마스크용 계측 솔루션을 개발해 온 기업으로, 타 기업들이 해당 기술에 의구심을 가지고 있을 때부터 발빠르게 움직였다는 것이 차별점"이라며 "High-NA EUV 기술 도입에 대한 만반의 준비를 마쳤다"고 강조했다. 포토마스크는 웨이퍼에 특정 회로를 새기기 위해 사용되는 노광 공정 핵심 소재다. 자이스는 포토마스크의 성능 및 결함을 측정하는 'AIMS' 장비를 공급하고 있다. "삼성전자, SK하이닉스 대형 팹 투자, 대응 준비 완료" 공급망 측면에서의 대응 능력도 자신했다. 현재 삼성전자·SK하이닉스 등 주요 반도체 제조 기업들은 국내외 대규모 반도체 생산기지 구축을 위한 설비투자에 나서고 있다. 삼성전자의 경우 평택캠퍼스 및 용인 국가산업단지를 비롯한 반도체 클러스터 육성 등에 약 2030조원을 투자할 방침이다. 야네 제후젠 지사장은 "자이스 제품에는 고정밀 특수 유리 등이 필요한데, 칩 수요 증가세를 보고 공급망을 준비하기 시작하면 이미 늦기 때문에 흐름을 훨씬 앞서서 공급망을 분석해야 한다"며 "자이스는 (한국 기업들의 대규모 팹 투자에 대해) 이미 준비를 마쳤다"고 강조했다. 일례로 자이스는 지난 7월 독일 오버코헨 소재의 반도체 제조기술(SMT) 공장에 대한 증설 계획을 발표했다. 총 2만5000제곱미터 규모의 공간을 추가 확보하는 것이 목표다. 해당 팹에는 High-NA EUV용 고정밀 광학 시스템, 계측 장비 등이 도입될 예정이다. 이노베이션 센터로 韓 고객사와 접점 강화…R&D 협력도 기대 국내 기업들과의 협력은 '자이스 반도체 이노베이션 센터(ZSKIC)'를 통해 더 긴밀해질 것으로 전망된다. 지난 7월 용인에 개소한 ZSKIC는 자이스 첨단 광학·계측 설비를 직접 체험해볼 수 있는 시설로, 현재 2개의 장비가 도입돼 있다. 추가 장비도 연내 도입을 앞두고 있다. 야네 제후젠 지사장은 "고객들이 직접 찾아와 자이스와 함께 공정을 개선하는 것은 이번이 처음"이라며 "엔지니어링 관점에서 고객 공정을 개선하는 방법만이 아니라, 하드웨어와 소프트웨어를 아우르는 자체 솔루션을 개선하는 방법도 많이 배우게 될 것"이라고 말했다. 국내 고객사들을 위한 연구개발(R&D) 거점 마련에 대해서도 "현재로선 결정할 수 있는 단계는 아니지만, 충분히 가능한 선택지라고 생각한다"고 답했다. 끝으로 야네 제후젠 지사장은 자이스코리아 신임 리더로서의 핵심 목표를 '강력한 조직력'으로 제시했다. 야네 제후젠 지사장은 "뛰어난 역량을 갖춘 팀을 만드는 것이 한국에 머무는 동안 집중하고 싶은 분야"라며 "고도로 동기부여된 팀과 고객사와의 협력, 시장에 대한 인사이트를 결합하면 자이스코리아를 넘어 그룹 전체를 위한 혁신을 더욱 가속화할 수 있을 것"이라고 밝혔다.
